瑞银：中国未来十年内难开发可媲美阿斯麦顶尖 EUV 光刻设备，DUV 量产或需两至五年

ChainCatcher 消息，据彭博社报道，瑞银集团分析师预计，未来十年内中国半导体制造能力可能难以取得足够快的进展，从而开发出能够真正替代阿斯麦尖端 EUV 光刻技术的方案。瑞银分析师在报告中写道，“他们目前所处的阶段似乎与阿斯麦在 2004 年时相当”，从专利申请活动来看，尤其是在光源和激光子系统领域，中国当前技术成熟度大致相当于阿斯麦开始大规模生产 EUV 设备前 15 年的水平。… 该事件反映了当前去中心化衍生品与链上流动性市场的最新走向。DefiTier 深度跟踪相关异动及其对交易者和空投挖矿策略的影响。